搜索
图纸上传
资料上传
登录/注册
我的收藏
半导体设备资料网
SemiModel是面向高端半导体等行业的学习和资源平台任何用户可以将自己的资源或产品发布在该平台目获得收益,平台免费为您推广!
微信扫码立即登录
二维码失效,点击重新获取
登录代表您同意
《SemiModel使用与注册协议》
首页
半导体设备图纸
晶圆制造:光刻、显影、刻蚀、热处理等
晶圆制造:镀膜、PVD、CVD等
晶圆处理:清洗、研磨、减薄等
晶圆量测:量测、检测、光学等
晶圆切割:划片、激光等
先进封装:键合类DB、WB、TCB、HB等
核心部件技术:Stage、chuck、运控等
封测探针:测试、编带、分选等
高端装备:精机、3C、SMT、面板等
半导体其他类型
半导体设备资料
晶圆制造:光刻、显影、刻蚀、热处理等
晶圆制造:镀膜、PVD、CVD等
晶圆处理:清洗、研磨、减薄等
晶圆量测:量测、检测、光学等
晶圆切割:划片、激光等
先进封装:键合类DB、WB、TCB、HB等
核心部件技术:Stage、chuck、运控等
封测探针:测试、编带、分选等
高端装备:精机、3C、SMT、面板等
半导体设备设计技术:精密机械、标准等
技术社区
半导体零部件发布
设备视频
签到免费下载
客服
TEL: 19866198761
E-Mail: caecosmos@gmail.com
客服微信: SemiModel
当前位置 >
半导体设备资料
资料分类:
全部
晶圆制造:光刻、显影、刻蚀、热处理等
晶圆制造:镀膜、PVD、CVD等
晶圆处理:清洗、研磨、减薄等
晶圆量测:量测、检测、光学等
晶圆切割:划片、激光等
先进封装:键合类DB、WB、TCB、HB等
核心部件技术:Stage、chuck、运控等
封测探针:测试、编带、分选等
高端装备:精机、3C、SMT、面板等
半导体设备设计技术:精密机械、标准等
资料类型:
全部
手册
技术研究
论文
报告
理论
其他
besi datacon8800(FC TCB通用)-Tooling design description标准部件设计说明90页
2026-09-01
99
0
22322247M
基于紫外光刻技术的纳米压印 光刻工具的开发174页
2026-09-01
65
0
9793860M
高速 MC-Si 多晶硅薄膜薄膜沉积设备的研发-141页
2026-09-01
53
0
11848267M
干法工艺技术与设备的开发243页
2026-09-01
78
0
17442320M
多重图案化工艺的高产能原子层沉积ALD设备技术及工艺技术74页
2026-09-01
53
0
4979952M
硅高速沉积设备技术(VHF-CVD)-多结薄膜硅太阳能电池用微晶硅技术 60页
2026-09-01
37
0
5395162M
10 代高密度等离子体干式镀膜设备的核心技术研发72页
2026-09-01
51
0
2948895M
tel-12寸氧化炉TELINDY PLUS程序调整手册222页
2026-08-31
58
0
69848611M
opus操作手册
2026-08-30
91
0
30729914M
CAMTEK标准指导手册
2026-08-30
73
0
10155515M
半导体设备精度如何测量?相机如何标定以及算法代码
2026-08-30
63
0
43221722M
精密超声波表面技术及其应用下的第十代涂层设备与干燥工艺开发 162页
2026-08-30
40
0
12318287M
上一页
1
2
3
4
5
6
...
25
26
27
下一页
热门推荐
硅通孔(TSV)以及晶圆和芯片无损检测设备技术-同步辐射光源技术-123页
先进封装高精度键合机-精度研究
热压键合设备核心技术资料KS TCB技术资料
wafer to wafer bonding 晶圆到晶圆键合设备资料
以色列CAMTEK晶圆检测设备配方资料手册- Eagle 系列
ASM银烧结固晶机-原厂全套手册和技术资料
激光TCB(热压键合)超精密堆叠设备研发资料-113页详细版本
热压键合设备TCB设备研发技术资料-中文版93页
先进2纳米级晶圆Overlay套刻测量设备技术 基于电子束
TCB热压键合设备:激光热压键合设备、工艺及材料技术深入剖析-来自韩美内部资料
高精密TCB热压键合设备结构设计技术
C2W键合设备:芯片到面板级封装设备开发技术-3D异构柔性器件工艺
半导体高速模块化贴片机系统开发与双龙门精度分析技术资料-132页
高端光刻配套涂胶显影机206页TEL CLEAN TRACK LITHIUS
AMAT刻蚀机资料Centris Sym3 Etch Chamber Manual
TEL等离子蚀刻系统 Tactras-Vigus维护手册
AMAT Producer GT全套资料
ASML光刻机全套资料
ASM 等离子增强原子层沉积PEALD XP8设备手册和资料
应用材料AMAT各种PVD/CVD/PECVD设备手册资料
AMAT Endura 超高真空集群 PVD 平台-全套手册
干法刻蚀技术-基础知识
中芯国际国产晶圆制造工艺全解析
半导体设备相关的流体,模态,振动方面的培训
半导体快速热处理-161页
高速抑振技术资料和软件
SUSS光罩对准
STPS- ICP 刻蚀系统-CVD薄膜沉积设备 手册Service Manual286页
ASM-TCB热压键合FIREBIRD设备手册436页
静电卡盘的系统电源手册和技术资料