应用领域：所研发的设备和技术被应用于各种纳米技术领域的实际应用和商业化进程，例如生物传感器、存储器半导体、显示面板、光学元件以及下一代功能性器件等。
纳米印刷设备技术：开发了 4 英寸和 6 英寸级的 UV 和热敏型纳米印刷设备（如 ANT-4、ANT-6H 等）。成功实现厚度不超过 50 纳米的超大尺寸均匀纳米图案的制造。印刷头采用柔性铰链结构，能够实现晶圆与掩模之间的六自由度姿态控制以及均匀的压合效果。
覆盖与对齐技术：为了实现多层图案化，我们采用了光学图像处理技术（十字形图案）以及圆形马赛克图案，从而实现了小于 1 微米级的全局对齐精度。此外，通过双栅格衍射光的应用， 25 至 35 纳米级别的定位精度 。
纳米级步进技术：设计并制造了这种超精密步进装置，采用了堆栈式压电元件（PZT）以及双复合桥式弹性伸缩放大器结构。通过这种技术，我们实现了小于 2 纳米的 XY 轴分辨率，以及 0.1 微弧度旋转轴的高精度运动性能。
极低频振动绝缘技术：我们开发了基于双腔体空气弹簧和毛细管流动摩擦效应的振动绝缘系统。该系统能够实现水平 1 赫兹、垂直 1.5 赫兹以下的极低固有频率，从而有效抑制对精密设备造成影响的极低频地基振动。
高性能电子束光刻加工设备：为了制造适用于 30 纳米以下纳米图案的掩膜，研发了采用高斯点辐射方式的电子束序列处理设备。通过应用 HSQ 阻焊层和 IZO 层，我们成功实现了 27 纳米线宽的高可靠性掩膜制造工艺。 该设备具有极高的可靠性。
