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晶圆制造:光刻、显影、刻蚀、热处理等 晶圆制造：镀膜、PVD、CVD等 晶圆处理：清洗、研磨、减薄等 晶圆量测：量测、检测、光学等 晶圆切割：划片、激光等 先进封装：键合类DB、WB、TCB、HB等 核心部件技术：Stage、chuck、运控等 封测探针：测试、编带、分选等 高端装备：精机、3C、SMT、面板等 半导体其他类型
半导体设备资料
晶圆制造:光刻、显影、刻蚀、热处理等 晶圆制造：镀膜、PVD、CVD等 晶圆处理：清洗、研磨、减薄等 晶圆量测：量测、检测、光学等 晶圆切割：划片、激光等 先进封装：键合类DB、WB、TCB、HB等 核心部件技术：Stage、chuck、运控等 封测探针：测试、编带、分选等 高端装备：精机、3C、SMT、面板等 半导体设备设计技术：精密机械、标准等
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资料描述

本文档内容：研究并开发了超临界二氧化碳干式清洗、MEMS干燥技术及相关装置，有效替代传统湿法工艺，解决了微细图形塌陷与环境污染问题！

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资料信息
资料ID ：690
文件大小：16.63M
资料格式：pdf
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