搜索
图纸上传
资料上传
登录/注册
我的收藏
半导体设备资料网
SemiModel是面向高端半导体等行业的学习和资源平台任何用户可以将自己的资源或产品发布在该平台目获得收益,平台免费为您推广!
微信扫码立即登录
二维码失效,点击重新获取
登录代表您同意
《SemiModel使用与注册协议》
首页
半导体设备图纸
晶圆制造:光刻、显影、刻蚀、热处理等
晶圆制造:镀膜、PVD、CVD等
晶圆处理:清洗、研磨、减薄等
晶圆量测:量测、检测、光学等
晶圆切割:划片、激光等
先进封装:键合类DB、WB、TCB、HB等
核心部件技术:Stage、chuck、运控等
封测探针:测试、编带、分选等
高端装备:精机、3C、SMT、面板等
半导体其他类型
半导体设备资料
晶圆制造:光刻、显影、刻蚀、热处理等
晶圆制造:镀膜、PVD、CVD等
晶圆处理:清洗、研磨、减薄等
晶圆量测:量测、检测、光学等
晶圆切割:划片、激光等
先进封装:键合类DB、WB、TCB、HB等
核心部件技术:Stage、chuck、运控等
封测探针:测试、编带、分选等
高端装备:精机、3C、SMT、面板等
半导体设备设计技术:精密机械、标准等
技术社区
半导体零部件发布
设备视频
签到免费下载
客服
TEL: 19866198761
E-Mail: caecosmos@gmail.com
客服微信: SemiModel
当前位置 >
半导体设备资料
>晶圆处理:清洗、研磨、减薄等
资料分类:
全部
晶圆制造:光刻、显影、刻蚀、热处理等
晶圆制造:镀膜、PVD、CVD等
晶圆处理:清洗、研磨、减薄等
晶圆量测:量测、检测、光学等
晶圆切割:划片、激光等
先进封装:键合类DB、WB、TCB、HB等
核心部件技术:Stage、chuck、运控等
封测探针:测试、编带、分选等
高端装备:精机、3C、SMT、面板等
半导体设备设计技术:精密机械、标准等
资料类型:
全部
手册
技术研究
论文
报告
理论
其他
DISCO DFP8160全自动干式晶圆抛光机
2026-07-26
15
0
22915302M
DISCO DGP 8760晶圆研磨抛光机
2026-07-26
39
0
105742281M
减薄抛光设备工作原理解及设备结构
2026-07-22
66
1
29696M
半导体湿法清洗设备药液温控循环装置研究技术、热管理及流体控制技术-82页
2026-06-26
118
0
8666786M
干式清洗技术培训-基于超微细图案
2026-06-26
109
0
7508022M
半导体清洗设备整机开发技术
2026-06-25
118
0
3218713M
半导体晶圆清洗设备:单片式晶圆清洗设备工艺腔室研发技术67页
2026-06-25
138
0
4177111M
2000W 钳式超声波反应器在声化学领域的开发技术
2026-06-25
107
0
6477675M
晶圆干法去胶与湿法清洗多腔体一体化设备的深入开发资料-90页
2026-06-25
151
0
4705287M
半导体双面抛光研磨设备开发技术-209页-针对12寸硅片
2026-06-25
110
0
17324392M
干法清洗设备技术:半导体先进制程10nm无损气相清洗
2026-06-24
97
0
16546916M
半导体晶圆减薄机核心技术研究WaferBackGrindingMachine38页
2026-06-24
139
1
3981779M
1
2
下一页
热门推荐
硅通孔(TSV)以及晶圆和芯片无损检测设备技术-同步辐射光源技术-123页
wafer to wafer bonding 晶圆到晶圆键合设备资料
先进封装高精度键合机-精度研究
以色列CAMTEK晶圆检测设备配方资料手册- Eagle 系列
激光TCB(热压键合)超精密堆叠设备研发资料-113页详细版本
ASM银烧结固晶机-原厂全套手册和技术资料
热压键合设备TCB设备研发技术资料-中文版93页
先进2纳米级晶圆Overlay套刻测量设备技术 基于电子束
TCB热压键合设备:激光热压键合设备、工艺及材料技术深入剖析-来自韩美内部资料
高精密TCB热压键合设备结构设计技术
C2W键合设备:芯片到面板级封装设备开发技术-3D异构柔性器件工艺
半导体高速模块化贴片机系统开发与双龙门精度分析技术资料-132页
新版ASM-FIREBIRD-TCB热压键合设备手册350页
热压键合设备核心技术资料KS TCB技术资料
静电卡盘的系统电源手册和技术资料
干法刻蚀技术-基础知识
TEL等离子蚀刻系统 Tactras-Vigus维护手册
Applied Endura EnCoRe HT PVD Ta(N)腔室手册
AMAT Producer GT全套资料
东京电子株式会社(TEL)ALPHA-303i 立式炉系统热处理设备344页
应用材料AMAT各种PVD/CVD/PECVD设备手册资料
AMAT刻蚀机资料Centris Sym3 Etch Chamber Manual
应用材料高密度等离子体化学气相沉积-hdp-cvd-300mm
DISCO DGP8761晶圆研磨抛光机CMP
德国爱思强-化学气相沉积系统MOCVD System手册和相关研究资料
AMAT Epi Centura 300 外延生长设备(硅外延机)125寸全套手册
ASML光刻机全套资料
高端光刻配套涂胶显影机206页TEL CLEAN TRACK LITHIUS
AMAT Endura 超高真空集群 PVD 平台-全套手册
ASM 等离子增强原子层沉积PEALD XP8设备手册和资料