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晶圆制造:镀膜、PVD、CVD等
晶圆处理:清洗、研磨、减薄等
晶圆量测:量测、检测、光学等
晶圆切割:划片、激光等
先进封装:键合类DB、WB、TCB、HB等
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高端装备:精机、3C、SMT、面板等
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无机薄膜沉积高密度等离子体技术的开发-86页
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48
2026-09-04
利用 CVD 法制造超高精度 SiC合成装置-85页
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43
2026-09-04
半导体设备和材料性能评估项目报告、规划及实施方案资料,-385页
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51
2026-09-04
besi datacon8800(FC TCB通用)-Tooling design description标准部件设计说明90页
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101
2026-09-01
基于紫外光刻技术的纳米压印 光刻工具的开发174页
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66
2026-09-01
高速 MC-Si 多晶硅薄膜薄膜沉积设备的研发-141页
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55
2026-09-01
干法工艺技术与设备的开发243页
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79
2026-09-01
多重图案化工艺的高产能原子层沉积ALD设备技术及工艺技术74页
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54
2026-09-01
硅高速沉积设备技术(VHF-CVD)-多结薄膜硅太阳能电池用微晶硅技术 60页
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38
2026-09-01
10 代高密度等离子体干式镀膜设备的核心技术研发72页
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52
2026-09-01
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