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SCREEN晶圆湿法清洗机manual和技术资料汇总

SCREEN晶圆湿法清洗机manual和技术资料汇总：10个文件，有620和820湿法清洗设备手册，和培训技术资料PPT以及研究论文等！

21 2026-03-19

干法刻蚀技术-基础知识

这份资料讲解了干法刻蚀技术-基础知识，内容丰富，可以参考下！

17 2026-03-19

半导体制造工艺资料包

资料覆盖了整个半导体制程所有工艺，一共227个文件，对应了解半导体制程和工艺以及设备十分有价值！

19 2026-03-19

LPCVD低压化学气相沉积设备及工艺开发技术

这份资料一共有96页！专门讲解和研究低压化学气相沉积设备的详细技术设计和技术计算分析！低压化学气相沉积一般用于90nm以上的薄膜沉积主流工艺，用于沉积氧化硅、氮化硅、多晶硅、碳化硅、氮化镓和石墨烯等薄膜，相较APCVD，LPCVD方法沉积的薄膜厚度均匀性好，台阶覆盖性好，沉积速率快，生产效率高，沉积的薄膜性能更好，因此应用范围更为广泛。

19 2026-03-19

BESI datacom8800FC倒装键合固晶机爆炸图和电气图

28 2026-03-19

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4 2026-03-17

晶圆双臂搬运机械臂

29 2026-03-17

苹果手机摄像头组装与检测设备

57 2026-03-16

全自动显影机

37 2026-03-16

激光划片机（已量产）锂电池片

28 2026-03-16