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晶圆切割:划片、激光等
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AlN(氮化铝)专用溅射设备:GaN系LED用AlN缓冲层沉积Sputter设备开发 85页
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2026-08-18
大面积AMOLED沉积的金属线性蒸装置开发技术-200页
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89
2026-08-18
AMOLED薄膜封装用非ALD方式、低缺陷、高生产率无机薄膜钝化设备开发-113页
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108
2026-08-18
ALD设备软件开发资料:工艺监控与控制系统软件的开发-60页
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119
2026-08-18
450mmLPCVD 低压化学气相沉积设备及工艺开发资料 76页
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127
2026-08-18
12寸Plasma Doping, PLAD等离子掺杂设备和ESC技术资料87页
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145
2026-08-18
晶圆CMP设备用-晶圆真空CHUCK,兼容多种规格
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147
2026-08-17
30nm级间隙填充流动氧化物沉积设备的开发
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126
2026-08-17
3D NAND 工艺的硬掩模沉积材料和沉积设备的开发技术261页
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140
2026-08-17
Lam等离子体增强化学气相沉积爆炸图和料号44页
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2026-08-17
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