随着AMOLED面板向大面积化和高分辨率方向发展，传统的集群式蒸发设备及点阵源暴露出薄膜厚度均匀性差、材料利用率低、连续使用时间受限等缺点。针对8代（8G）及更大尺寸的AMOLED面板制造，开发世界首款用于高温金属薄膜（如 Ag、Mg、Yb、Li、Ca 等）沉积的线性蒸发源（Linear Source, LNS），并同步开发与之配套的蒙特卡洛（Monte-Carlo）计算机仿真解析技术。
8代金属线性蒸发源的研制：
成功开发出适应1300℃以上高温操作的金属线性蒸发源，突破了以往有机线性源最高500℃的技术局限。
相较于传统的点阵源（Point Source），线性蒸发源的材料利用率提高了5倍以上，可显著降低AMOLED的制作成本，并大幅延长连续作业时间。
前算模拟技术：
利用软件开发了能够适应多喷嘴线性排列的蒙特卡洛仿真模型，精确预测并分析了内部压力分布及粒子轨迹，保证了厚度均匀性和混合均匀度达90%以上。
