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搜索结果
光刻匀胶显影机
40    2026-03-16
晶圆切片机
32    2026-03-16
针对PECVD ACL设备研发核心技术——14寸20纳米级制程
资料内容一共232页!讲解了PECVD的详细开发过程和工艺数据分析!绝对是硬核资料! PECVD ACL设备是半导体工艺中的核心设备,通过在晶圆表面利用等离子体形成并沉积含碳的碳氢化合物非晶碳层(ACL) 工艺模块由等离子体发生器、淋浴头、吸气管、加热器及工艺腔室等构成,通过集成射频馈送技术、掺杂工艺、退火方法以及新型前驱体,实现20纳米级微细加工工艺的高性能化。
28    2026-03-15
半导体离子注入机
61    2026-03-15
半导体转塔式分选机
70    2026-03-14
晶圆映射芯片分选机
81    2026-03-03
半导体料盒上下料装置
70    2026-03-03
半导体双头焊线机
56    2026-03-03