这是一台来自韩国的公司开发的一款半导体激光修复设备。图纸格式为STP格式,机密图纸请慎用!!应用在如“玻璃尺寸”半导体先进封装和新型高精度显示面板(FPD/OLED Mini-LED)制造过程中的晶圆/基板缺陷高级激光修复与检测设备。它主要用来解决先进封装或精密显示基板制造中,因微小瑕疵导致的高成本报废问题。
图纸技术集成了“双面三波长激光微加工 + 自动光学成像 + 机械探针电测 + 高速高加速龙门运动”于一体的复合型技术设计。


它的核心任务是提高良率(。 在芯片异质集成、晶圆级封装或超精细显示基板的生产过程中,微米级的异物、走线短路、凸点(Bump)异常或残留物会导致整块昂贵的基板报废。该设备通过高精度机器视觉定位发现缺陷,并利用特定波长的脉冲激光进行精细烧蚀、切割或修整,从而将不良品“救活”。
主要应用场景包括:
先进封装中的载板/玻璃基板(Glass Core Substrate)修复:去除微米级的金属残留、有机异物或线路短路。
显示与半导体交叉领域(如 Micro/Mini-LED 巨量转移基板):对基板上的焊接位、走线进行高精度修复。
临时键合与解键合(Temporary Bonding/Debonding)前后的基板检查与清洁。
主要包含以下几个关键单元:
底部激光光学单元) & 顶部激光光学单元
双面加工能力:这是该设备的一大亮点。它同时具备顶部和底部两套独立的激光光学系统,意味着不需要翻转基板,就能同时对基板的正面和背面进行三维空间的激光修复。
회전 가능 Unit和회전 Unit
用于对吸附工作台(Stage)或光学头进行多角度、高精度的微调,以匹配缺陷的晶向或走线角度。
핀검사 Unit(探针检查单元)
在激光修复前后,通过物理探针对特定的电路节点、测试点进行电学性能检查,确保修复真正生效。
물류(物流系统)
高效的自动化晶圆/基板多层载入与出料机构(下方参数表提到托盘多达 51 层)。
兼顾大行程、高速度与微米级精度的典型半导体量产设备:
波长:支持紫外(UV)、绿光(Green)、红外(IR)三种波长。
具体谱线:顶部和底部分别配置了 1064nm(红外)、532nm(绿光)、255nm(深紫外)。
*红外(1064nm)*通常用于大能量的材料切除或热效应加工;
*绿光(532nm)*兼顾吸收率与精细度;
*深紫外(255nm)*具有极高的光子能量,用于冷加工(Cold Ablation),能实现微米甚至亚微米级、无热影响区的超精细剥离和切除,非常适合半导体精细走线。
舞台单元(Stage):支持可旋转载物台(4个角度)、探针检查(1个角度)和无衬里载物台。工作台面采用了半导体高精度设备标配的多孔石板(Porous Granite)或铝合金(AL)真空吸附板,以保证极致的平面度。
龙门单元(Gantry):最大速度 600 mm/s,最大加速度 0.1G。这表明运动轴(可能采用直线电机驱动)在承载重型光学头的同时,仍具备极高的动态响应能力。
隔离装置(Isolation):配备了自动调节空气空气隔离器(气浮避震器)。激光修复极度怕震,空气悬浮避震是为了隔离工厂地面的低频扰动,确保光斑不漂移。
节拍时间:8秒。对于包含精密对位、可能还包含探针检测和激光加工的复合设备来说,8秒的单片处理速度(包含托盘流转)是非常高的量产级速度。
空间布局:设备重达 9.5吨,长宽高达到了 3.3m x 4.95m x 3.0m,并自带风机过滤单元(FFU),说明它本身内部就是一个独立的高等级微环境洁净室(Mini-environment)。
| # | 文件名称 | 大小 |
|---|---|---|
| 1 | 465.31M | |
| 2 | 8.04M | |
| 3 | 290.75K | |
| 4 | 0B |