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光模块800G耦合设备
首页 >半导体设备图纸 >先进封装:固晶-焊线-TCB 2026-08-10 报告错误错误问题可与客服联系,感谢您的支持![获取免费下载]上传图纸即可免费下载哦!0
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图纸预览图
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图纸描述

800G 耦合机是800G 高速光模块封装核心设备,完成光芯片‑透镜‑光纤阵列 FA 的纳米级光学对准、寻光、点胶、UV 固化全流程,直接决定光模块插损、良率与可靠性,占整条光模块封装产线设备价值 35‑40%。800G 普遍采用主动耦合(光功率闭环反馈),部分硅光方案推进被动耦合 / 光栅耦合。

核心工艺原理

  1. 主动耦合(800G 量产主流):给 EML 激光器上电,六轴运动平台(XYZ+θxθyθz)扫描,实时采集输出光功率,搜索光功率极大点;到达最优位置后点胶、UV 紫外固化锁死光路。

微小偏移 0.1‑0.3μm 就会带来显著光损耗,800G 对重复定位、角度精度要求远高于 400G。

  1. 被动耦合:不靠光功率反馈,依靠机械定位 / 光栅结构对位,追求更高产能,多用于硅光 NPO/CPO 研发,量产良率门槛高。

  2. 完整工序:上料→视觉预定位→精密寻光耦合→点胶→UV 固化→光学复检下料,一体机可以全部集成完成。

耦合机关键技术指标

项目800G 量产典型指标
直线重复定位精度±0.05~±0.1 μm
角度重复精度±0.003°~±0.005°
耦合重复性损耗≤0.2 dB(量产良率关键)
平台架构六轴直线电机;大理石底座 + 气浮减震
支持器件EML、FA 光纤阵列、Lens 透镜、硅光 PIC、COB 多模组件
单通道循环时间60‑120 s;双 FA 机型 TX/RX 同步耦合效率提升 50%+

800G 分两类场景:

  • 单模:FR4/LR4,EML+FA 透镜耦合;

  • 多模:SR4/SR8,COB 阵列耦合,对多通道一致性要求高。

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图纸信息
图纸ID :602
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图纸参数:可编辑,不包含特征参数
图纸格式:sldprt、STEP
软件版本:2025
作者
用户XY0cKu
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