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首页 >半导体设备资料 >晶圆制造:镀膜-PVD-CVD 2024-01-31 报告错误错误问题可与客服联系,感谢您的支持! [获取免费下载] 觉得本站不错记得分享给好友哦! 0
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图纸预览图
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资料描述

ALD(Atomic Layer Deposition,原子层沉积) 是基于自限制表面半反应的薄膜制备技术,区别于 PVD/PECVD 连续共通供气模式,两种前驱体交替脉冲、中间吹扫隔离,单次循环仅沉积单原子 / 单分子层,厚度完全由循环次数决定,是先进半导体三维结构唯一能做到100% 保形覆盖的工艺。

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资料信息
资料ID :329
文件大小:90.47M
资料格式:pdf
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