CORIAL（法国科瑞尔，现属 Plasma‑Therm）是中小批量 + 化合物半导体 / 功率器件 / 光电子的主流刻蚀设备商，强项是ICP‑RIE/DRIE，主打 SiC、GaN、蓝宝石、深硅 / 玻璃刻蚀，兼顾 R&D 与量产，在 6–8 寸功率 / 光电子产线占有率很高
210IL（旗舰 ICP‑RIE）Corial
2kW ICP 源、负载锁、石英内衬；支持SiC/GaN/ 蓝宝石 / 玻璃 DRIE。
刻蚀能力：SiC≈0.7–1.4μm/min、GaN≈650–1200nm/min、深硅≈10μm/min；均匀性 ±2–3%Corial。
210RL（通用 RIE）：兼容氯 / 氟气，适合 III‑V 族、金属、聚合物Corial。
200S/R/I（入门 RIE）：手动 / 半自动，适合 Si、SiO₂、PI、故障分析（200FA）Corial。
360IL（量产 ICP‑RIE）：批量（7×100mm）、24/7 运行，GaN/SiC 量产主力Corial。
360RL（量产 RIE）：III‑V、掩模铬 / 石英刻蚀Corial。
