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AMAT离子注入技术资料和清单
首页 >半导体设备资料 >晶圆制造:光刻-显影-刻蚀-热处理 2024-01-31 报告错误错误问题可与客服联系,感谢您的支持! [获取免费下载] 觉得本站不错记得分享给好友哦! 0
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资料描述

AMAT 9500(9500xR)大束流离子注入机资料等

AMAT 9500 是应用材料经典大束流离子注入机,主流子型号为 9500xR,主打 6 英寸(150mm)硅片量产,是 80–90 年代晶圆厂量产主力机型,至今大量用于分立器件、功率半导体、IGBT、模拟芯片、特种工艺产线二手扩产场景。

关键硬件配置

1)离子源系统(核心)

  • 标配 Bernas 伯纳源 + IHC 间接加热阴极,气态 / 固态掺杂源双兼容

  • 气态源:BF₃、AsH₃、PH₃、Kr;固态源炉:单质 P、As 固体源

  • SDS 模块化气柜,多路 MFC 独立供气,可快速切换掺杂元素

2)能量与电压区间

  • 引出电压:最高 60 kV

  • 后加速电压:0~160 kV

  • 总最大注入能量:200 keV(xR 版)

  • 束流上限:最高 4mA 级别,最高剂量吞吐 4e15 ions/cm² 量级

3)晶圆台与扫描系统

  • 标准适配:150mm(6 英寸)硅片,少量定制版支持 8 英寸

  • 倾角可调:0°~7° 固定倾斜角,支持晶圆 180° 自转消除沟道效应

  • 12bit 高精度束扫描,皮带驱动旋转靶轮,双向片盒传送

  • 标配 PFS 等离子 flood gun 电子中和枪,解决高束流晶圆充电击穿问题

4)真空机组

  • 束线管:爱德华分子泵;离子源、工艺腔:莱宝涡轮泵 + CTI 低温泵

  • 双波纹管引出结构,降低漏气率,粒子污染控制优异

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资料信息
资料ID :311
文件大小:57.28M
资料格式:pdf
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