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德国爱思强-化学气相沉积系统MOCVD System手册和相关研究资料
首页 >半导体设备资料 >晶圆制造:镀膜-PVD-CVD 2024-01-31 报告错误错误问题可与客服联系,感谢您的支持! [获取免费下载] 觉得本站不错记得分享给好友哦! 1
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资料描述

德国爱思强(AIXTRON)是全球 MOCVD 设备双寡头之一(与 Veeco 并列),以行星式反应器(Planetary Reactor®)为核心技术,主打高均匀性、高量产、低缺陷,覆盖LED、功率半导体、光通讯、SiC/GaN全品类外延!

一、核心技术:行星式反应器(Planetary Reactor®)

  • 结构:水平层流 +多行星旋转(托盘自转 + 公转),气浮轴承,无机械磨损

  • 气流近耦合喷淋头(CCS),径向均匀分流,界面陡峭、均匀性极致

  • 加热射频感应加热 + 多区控温,最高1400℃,适配 AlN/SiC 高温外延。

  • 原位监控:Laytec EpiTT/EpiCurveTT、ARGUS(温度 mapping)、EPISON(MO 浓度)。

参数G10‑GaNG5+ C2800G4‑TM
晶圆尺寸8 寸(5×200mm)8 寸(5×200mm)6 寸(8×150mm)
生长温度1000–1300℃950–1250℃950–1150℃
产能(片 / 天)~250(8 寸)~180(8 寸)~120(6 寸)
波长均匀性±0.8nm±1.0nm±1.5nm
缺陷密度<0.05/cm²<0.1/cm²<0.5/cm²
核心应用功率 GaN、车规Micro LED、GaN‑on‑Si蓝 / 绿 LED、Mini LED


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资料信息
资料ID :250
文件大小:96.12M
资料格式:pdf
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