为了实现柔性显示器，在塑料基板上进行低温工艺（低于 150°C）至关重要，因此需要开发一种新的溅射设备技术，以最大限度地减少现有溅射工艺中高能粒子（氧阴离子和氩离子）对薄膜和基板造成的损害。
沉积速率（沉积速率） ：目标为 80 nm/min 或更高 $\rightarrow$ 最终达到 509.4 nm/min（玻璃），260.0 nm/min（薄膜）
工艺温度 ：目标温度 150℃ 或更低 $\rightarrow$ 最终达到的室温 (RT)
目标使用效率 ：目标 80% 或更高 $\rightarrow$ 最终达成率 84.7%（采用旋转目标）
移动特性 ：
玻璃基板：目标 30 $cm^2/Vs$ 或以上 $\rightarrow$ 最终达成 34.2 $cm^2/Vs$
塑料基材：目标 10 $cm^2/Vs$ 或以上 $\rightarrow$ 最终达成 22.1 $cm^2/Vs$
阈值电压 ：目标值 1V 或更低 $\rightarrow$ 最终实现值 0.75V
设计并制造了一种新型概念溅射设备（对称/反向 ECR 溅射和微波辅助旋转阴极），该设备利用微波在靶材附近产生高密度等离子体，并通过施加独立电压来控制离子能量，并建立了大面积工艺技术。
提出了面板规格和开发方向，评估制造设备和氧化物 TFT 器件的可靠性，以及验证产品的适用性。
制造并优化了用于大型柔性基材在线输送的托盘系统、驱动单元（LMS）、控制箱和托盘夹具。
评估了溅射设备沉积的氧化物半导体的均匀性和电学特性，并对低温工艺中的 TFT 器件结构（底栅、蚀刻阻挡层等）和可靠性（偏置应力、光稳定性）进行了优化。
通过设计 ECR 等离子体源、设计微波发射器结构以及进行磁场和 PIC-MCC 等离子体模拟，实现了高密度等离子体源。
