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RIE-400i 為電感耦合式電漿蝕刻機(ICP),是以氯氣電漿(Chlorine-based)為基 礎的蝕刻系統,使用的氣體為 Cl2、BCl3、SiCl4、Ar、O2、N2 和 CHF3,主要用於 III-V 及 金屬材料蝕刻。