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感應耦合式高密度電漿蝕刻機手册
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资料描述

RIE-400i 為電感耦合式電漿蝕刻機(ICP),是以氯氣電漿(Chlorine-based)為基 礎的蝕刻系統,使用的氣體為 Cl2BCl3SiCl4ArO2N2 CHF3,主要用於 III-V 金屬材料蝕刻。