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来自美国LAM关于刻蚀设备的技术专利
首页 >半导体设备资料 >晶圆制造:光刻-显影-刻蚀-热处理 2024-01-31 报告错误错误问题可与客服联系,感谢您的支持! [上传图纸即可免费下载] 觉得本站不错记得分享给好友哦! 0
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图纸预览图
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资料描述

用于消除等离子源的参比部及基板C环的病态,具有向外侧放射状设置的提升针的底座

含金屬光阻的多合一乾式顯影

半导体处理模块的顶环

晶圓中的乾式顯影

喷淋盘技术