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光刻平台光罩對準曝光機 (Mask Aligner) 各种资料
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图纸预览图
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资料描述

NXQ 8000 系列光刻机 (由 Neutronix-Quintel / NxQ 制造 )是业界领先的光刻平台,专为高精度研发和大批量生产 (HVM) 而设计。   它广泛应用于 MEMS、3D-IC、先进封装(WLP、2.5D 中介层)、微流控、化合物半导体和 UV-LED 生产等领域。