Raith（莱特）是全球领先的纳米加工、电子束光刻（EBL）以及聚焦离子束（FIB）微纳加工系统制造商之一。总部位于德国，Raith 的设备在世界各地的大学、科研院所及高科技企业的超净实验室中被广泛使用，是纳米科学、量子技术、微纳光子学及半导体器件研发的核心装备。
Raith 针对不同的科研与工业应用需求，拥有多条成熟的电子束光刻产品线：
EBPG 系列（超高性能、极速高精度写场）
代表型号：EBPG5150 / EBPG5200 等
特点：采用热场发射电子源（通常为 $100\text{ kV}$ 加速电压），具备极高的束流稳定性和高达 $125\text{ MHz}$ 的图形发生器（Pattern Generator）。专注于超高分辨率（$<8\text{ nm}$）与大面积、高吞吐量的图形化能力，是纳米光子学、量子计算芯片（QIS）及超导器件制造的工业与科研标准工具。
VOYAGER 系列（多功能高斯束光刻系统）
特点：专为纳米结构研发设计，兼顾高分辨率与灵活的工艺集成，常用于微纳光学器件、掩模版制作。
eLine / eLINE Plus 系列（SEM/EBL 联用与多功能纳米实验室）
特点：基于高品质场发射扫描电子显微镜（SEM）平台，结合了纳米图形直写（EBL）与高分辨率形貌表征能力。非常适合需要进行复杂图形拼接、原位表征及多学科交叉研究的学术实验室。
卓越的图形拼接与对准精度：集成高精度的激光干涉仪位移台（Laser Interferometer Stage），能够实现极高的多层套刻精度（Overlay Accuracy，通常 $<5\text{ nm}$）。
灵活的束流与动态校准：具备自动、动态的焦点、像散及场畸变校准功能，在面对大写场（Write Field）或长的工作时间时，依然能保证纳米级线宽的一致性。
软件生态与扩展性：Raith 的控制和设计软件支持与主流图形处理软件（如前述的 GenISys BEAMER）无缝对接，能够针对复杂的邻近效应和版图进行完美优化。
