GenISys 是全球知名的微纳加工与光刻领域软件及解决方案提供商，其核心业务涵盖电子束光刻（EBL）、光学光刻以及掩模制造等工艺的仿真、数据处理、邻近效应修正（PEC）以及图形优化。
在电子束光刻（Electron Beam Lithography, EBL）生态中，GenISys 的软件产品扮演着至关重要的角色，被广泛应用于全球各大科研机构、半导体厂及掩模厂。
GenISys 针对微纳加工的不同环节开发了一系列行业标准软件：
BEAMER（电子束光刻数据处理与邻近效应修正）
功能：EBL 领域最著名的图形处理与邻近效应修正（Proximity Effect Correction, PEC）软件。
特点：能够处理复杂的 GDSII / OASIS 版图数据，通过物理模型（如 Monte Carlo 模拟）自动计算并修正由于电子背散射导致的邻近效应，优化曝光剂量，确保纳米级线条的精度和陡直度。
应用：广泛用于高精度掩模制造、超表面、微纳光子学器件、量子器件的版图预处理。
LAB / TRACER（光刻与电子束曝光仿真）
功能：提供全面的光刻工艺仿真，特别是针对电子束光刻的 3D 点扩散函数（PSF）及能量沉积模拟。
特点：帮助工程师在实际制版或曝光前，在计算机中模拟光刻胶内的能量分布、显影轮廓及三维形貌，减少试错成本和材料消耗。
NPVE / Layout Viewer 等辅助工具
用于版图查看、纳米图形矢量化、图形分割与拼接（Field Stitching）优化，解决大面积电子束直写时的拼接误差问题。
突破硬件物理极限：电子束光刻虽然具有 $<10\text{ nm}$ 的超高分辨率，但电子在抗蚀剂和衬底中会发生严重的散射（邻近效应）。GenISys 的 BEAMER 软件通过精准的算法补偿这一物理缺陷，使纳米级复杂图形的图形保真度大幅提高。
兼容主流设备：GenISys 的软件平台能够与各大主流商业电子束光刻机（如 JEON、Elionix、Vistec、Raith 等）以及国产电子束光刻设备的数据格式无缝对接，成为连接“CAD设计版图”与“物理曝光硬件”的核心桥梁。
多工艺融合支持：除了电子束光刻，它还支持激光直写、步进投影光刻及纳米压印等多种光刻技术的混合工艺开发
