尼康 NSR-SF100 是一款主要面向大批量生产的 i-line（365nm）步进式光刻机（Stepper）。SF100 设计上支持更大尺寸的晶圆处理，且在吞吐量和精度上进行了优化。
以下是该机型的核心技术规格：
光源： i-line (365nm)。
分辨率： 400 nm。
数值孔径（NA）： 0.52。
曝光范围： 最大可达 25-33 mm。
重合精度（Overlay）： 45 nm。
缩小倍率： 1:4。
该机型在不同尺寸晶圆上的吞吐量表现非常出色，旨在满足工业级大规模制造需求：
300mm（12英寸）晶圆：80 片/小时 (wph)。
200mm（8英寸）晶圆： 120 片/小时 (wph)。
适用节点： 该机型常被提及用于优化 65nm 和 45nm 节点的成熟制程工艺。
技术优势： 其设计重点在于通过双级光学系统、斜坡光源及先进的像差控制光学元件，在高速生产的同时保持极高的灵活性与制造精度。
生命周期： 目前该机型主要服务于现有的存量产线。
