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氮化硅材料和衬底的开发
首页 >半导体设备资料 >半导体设备设计技术:精密机械、标准等 2024-01-31 报告错误错误问题可与客服联系,感谢您的支持! [上传图纸即可免费下载] 觉得本站不错记得分享给好友哦! 0
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图纸预览图
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资料描述

资料主要内容


  • 材料和成分: 我们利用氧化物基添加剂开发了氮化硅陶瓷的成分配方和球化条件,并实现了黑色致密化    。


  • 成型技术: 我们开发了能够控制真空气氛的精密冲压成型技术,而不是昂贵的高温高压设备,以降低成本并提高密度    。


  • 烧结技术: 确保了相对较低的温度和大气压烧结条件,克服了氮化硅难以烧结的问题    。


  • 薄片加工: 通过 DTS,我们开发了一种金刚石抛光工具和一种节省成本的“一步式”抛光工艺,用于加工大面积氮化硅薄片(100× 100 ×0.25mm ) 。