东京电子（TEL）ALPHA-303i 是一款高性能垂直扩散炉，专为 12 英寸（300 毫米）晶圆加工而设计。它在半导体行业被广泛认为是 TEL Alpha-8SE 系列的升级版，并进行了大规模生产。
ALPHA-303i 专为精密热处理而设计，具备大批量半导体制造所需的关键功能：
温度范围： 能够达到最高 1250°C 的工艺温度
热控制： 采用自动区域设置 (AZS) 和先进的涡流加热机制，确保晶圆批次具有卓越的温度稳定性和均匀性。
加热效率： 采用高精度自动控制、陶瓷反射器和特殊腔壁设计相结合的方式，最大限度地提高传热效率。
加工能力： 可处理多种材料，包括各种金属、合金和金属间化合物。
先进的气体输送系统： 配备精密的气体输送系统和过滤装置，以确保高纯度的加工环境。
操作规模： 作为一款兼容 300 毫米的系统，它具有大容量处理能力，可支持高通量生产。
