c.OXIDATOR 系列（例如 c.OXIDATOR 200）是一款专用的高温氧化炉，主要用于碳化硅（SiC） 加工，但也能够处理硅片氧化。
高温运行： 最高温度可达 1500°C，这对于 SiC 的热氧化形成高质量的 SiO₂至关重要。 2 层.
工艺通用性：
氧化： 支持干式氧化（ O 2 ）和湿式氧化（ O 2 /H 2 或蒸汽）。
退火： 可在 $NO$ 、 $N_2O$ 、 等气氛中进行氧化后/沉积后退火(POA/PDA) NH3 3 或 N 2 为了改善 $SiO_2/SiC$ 界面质量（降低界面陷阱密度并提高通道迁移率）。
预处理： 高温 H 2 底物预处理。
安全性和设计： 专为安全处理有毒和易燃气体（例如退火中使用的气体）而设计。 它配备真空反应室，并经过精心设计，可实现出色的温度均匀性。
吞吐量和自动化： 它支持最大 200 毫米的晶圆尺寸，并提供全自动晶圆处理（盒到盒）选项，以满足研发和大批量生产环境的需求。
