东京电子株式会社（TEL）ALPHA-303i 是一款 300 毫米立式炉系统，主要用于半导体制造中的批量处理。
当配置为用于 TEOS （原硅酸四乙酯）工艺时，该系统可用于化学气相沉积（CVD）应用，例如二氧化硅（SiO₂）的沉积。 2 电影。
生产能力： 专为 300 毫米晶圆设计，通常可支持高达 125 片晶圆的生产负荷。
系统配置：
配备高速多晶圆装载系统，并带有光学缺口对准功能。
配备前开式统一舱（FOUP）接口，兼容高架运输系统（OHT）和个人导引车（PGV）。
标准配置通常包括两艘船和 16 个载货点。
热力与反应堆控制：
通常采用多区加热器（例如，5 区加热器），并采用 PID 温度控制，其工作温度范围通常在 600°C 至 1000°C 之间。
包括自动旋转船体以确保工艺一致性。
工艺管通常由石英制成。
工艺多功能性： 虽然 ALPHA-303i 经常被提及用于 TEOS 应用，但该平台也用于各种其他工艺，包括 LPCVD、氮化物沉积、多晶硅沉积和退火。
维护和接口： 系统通常基于 Linux 软件运行，包括本地气体箱和用于监控和维护的操作面板。
ALPHA-303i 代表了半导体制造 300 毫米时代一个成熟的生产平台。由于目前许多此类设备已在二手设备市场上销售，因此不同机器的具体配置（例如气体输送装置、泵类型和特定加热器型号）可能存在显著差异。
