客服
高密度器件堆栈键合设备之热管理技术37页
首页 >半导体设备资料 >半导体设备设计技术:精密机械、标准等 2024-01-31 报告错误错误问题可与客服联系,感谢您的支持! [获取免费下载] 觉得本站不错记得分享给好友哦! 0
47
图纸预览图
图纸预览图
图纸预览图
图纸预览图
图纸预览图
资料描述

该技术资料展示了从单纯的“材料散热”向“公艺级系统热管理”的转变。通过将功率传输

(ABL Bump)与高效散热通道(TSV Liquid Cooling)直接嵌入芯片制造工艺中,实现了

对高密度堆叠器件的有效热控,为下一代高性能三维集成封装提供了可行的设计与制造路径。

随着半导体器件向高密度、高性能(如3D堆叠)方向发展,传统的电路及架构设计已难以有效处理高发热量带来的问题 。核心挑战包括:

  • 高功耗与热密度: 随着技术节点缩小(如14nm),功耗密度预计超过 100W/cm²,甚至在微处理器热点处达到 500W/cm²,这对封装的散热能力提出了极高要求

  • 传统方案局限性: 传统的散热材料(如TIM、Heat Sink)及电路层面的优化已达到瓶颈,必须引入更先进的公艺级(Process-based)热管理解决方案

2. 先进热管理与键合技术方案

该文档提出了一套集成了先进功率凸点(Advanced Bump Layer, ABL)液冷TSV(Liquid Cooling TSV)的协同热管理系统

A. ABL 功率凸点技术(用于改善电能传输与散热)

  • 设计优化: 针对传统 (Bump)难以在缩减尺寸的同时维持高功率传输的问题,设计了连接型 ABL 功率凸点

  • 工艺实现: * 通过电镀(Electroplating)和 CMP(化学机械抛光)工艺实现高平坦度的凸点结构

    • 引入了 Cu-to-Cu 直接键合(Direct Bonding)技术,利用等离子体处理改善铜表面活性,从而提升键合界面质量与电可靠性

  • 效果: 实验证明了 Cu ABL 凸点与 Cu 倒装芯片(Flip Chip)键合的可行性,改善了高电流密度下的电能传输

B. TSV液冷冷却系统(用于高效热移出)

  • 结构设计: 在硅片上通过 DRIE(深硅刻蚀) 工艺同时制作 TSV(硅通孔)微通道(Microchannel),并与玻璃基板进行阳极键合(Anodic Bonding)构成密封的液冷模块

  • 热管理机制: * 将液冷TSV置于功率TSV周边,利用液体流动的对流换热能力,直接将芯片内部产生的热量导出

    • 研究了不同的微通道结构、TSV尺寸及冷却液类型对散热效率的影响,并建立了相应的设计指南

3. 协同系统的实现与验证

  • 三维堆叠实现: 将液冷模块与 ABL 功率凸点集成为一个三维堆叠系统

  • In-Situ 性能监测: 利用红外显微镜(IR Microscope)实时观测系统在运行状态下的热分布,验证了该方案在处理高热通量器件时的有效性