该技术资料展示了从单纯的“材料散热”向“公艺级系统热管理”的转变。通过将功率传输
(ABL Bump)与高效散热通道(TSV Liquid Cooling)直接嵌入芯片制造工艺中,实现了
对高密度堆叠器件的有效热控,为下一代高性能三维集成封装提供了可行的设计与制造路径。
随着半导体器件向高密度、高性能(如3D堆叠)方向发展,传统的电路及架构设计已难以有效处理高发热量带来的问题 。核心挑战包括:
高功耗与热密度: 随着技术节点缩小(如14nm),功耗密度预计超过 100W/cm²,甚至在微处理器热点处达到 500W/cm²,这对封装的散热能力提出了极高要求 。
传统方案局限性: 传统的散热材料(如TIM、Heat Sink)及电路层面的优化已达到瓶颈,必须引入更先进的公艺级(Process-based)热管理解决方案 。
该文档提出了一套集成了先进功率凸点(Advanced Bump Layer, ABL)与液冷TSV(Liquid Cooling TSV)的协同热管理系统 。
设计优化: 针对传统 (Bump)难以在缩减尺寸的同时维持高功率传输的问题,设计了连接型 ABL 功率凸点 。
工艺实现: * 通过电镀(Electroplating)和 CMP(化学机械抛光)工艺实现高平坦度的凸点结构 。
引入了 Cu-to-Cu 直接键合(Direct Bonding)技术,利用等离子体处理改善铜表面活性,从而提升键合界面质量与电可靠性 。
效果: 实验证明了 Cu ABL 凸点与 Cu 倒装芯片(Flip Chip)键合的可行性,改善了高电流密度下的电能传输 。
结构设计: 在硅片上通过 DRIE(深硅刻蚀) 工艺同时制作 TSV(硅通孔) 和 微通道(Microchannel),并与玻璃基板进行阳极键合(Anodic Bonding)构成密封的液冷模块 。
热管理机制: * 将液冷TSV置于功率TSV周边,利用液体流动的对流换热能力,直接将芯片内部产生的热量导出 。
研究了不同的微通道结构、TSV尺寸及冷却液类型对散热效率的影响,并建立了相应的设计指南 。
三维堆叠实现: 将液冷模块与 ABL 功率凸点集成为一个三维堆叠系统 。
In-Situ 性能监测: 利用红外显微镜(IR Microscope)实时观测系统在运行状态下的热分布,验证了该方案在处理高热通量器件时的有效性 。