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在先进半导体制造中,“Kill Particle”(致死颗粒)是导致晶圆良率下降的头号杀手。随着工艺节点迈入 3nm 及以下,哪怕是几纳米的颗粒都可能导致电路短路或开路。
半导体设备的颗粒控制是一项系统工程,主要从污染源控制、流场管理、表面工程、真空真空操作工艺以及原位监测五个维度来构筑防线。