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半导体设备颗粒去除与控制技术
首页 >半导体设备资料 >半导体设备设计技术:精密机械、标准等 2024-01-31 报告错误错误问题可与客服联系,感谢您的支持! [获取免费下载] 觉得本站不错记得分享给好友哦! 0
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资料描述

在先进半导体制造中,“Kill Particle”(致死颗粒)是导致晶圆良率下降的头号杀手。随着工艺节点迈入 3nm 及以下,哪怕是几纳米的颗粒都可能导致电路短路或开路。

半导体设备的颗粒控制是一项系统工程,主要从污染源控制、流场管理、表面工程、真空真空操作工艺以及原位监测五个维度来构筑防线。