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VEECO湿法刻蚀工艺和技术研究
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图纸预览图
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资料描述


  • 核心定位:纳米薄膜沉积、刻蚀、退火、量测设备厂商,化合物半导体 MOCVD 全球龙头

  • 覆盖赛道:第三代半导体、LED/MicroLED、先进逻辑 / 存储芯片、先进封装、光通信、量子计算、硬盘磁头制造