大面积AMOLED掩模（Mask）激光清洗系统的研制与开发。以下是该文档的核心内容总结：
在OLED制造过程中，精细金属掩模（FMM，主要材质为Invar因瓦合金或SUS）会随着R、G、B有机发光材料的重复蒸镀而在表面积聚残留物，必须定期清洗。
传统的化学湿式清洗存在工艺步骤多（长达6个阶段、耗时4小时以上）、使用强酸强碱及强力有机溶剂（如NMP、KOH、F系溶液等）、环境污染严重、废水处理成本高以及容易损伤高价掩模等缺点。
在开发环保、高效、无损伤的大面积AMOLED掩模激光干式与混合（Hybrid）清洗系统，以取代传统湿法工艺。
核心技术与工艺研究：
波长优化：研究表明，针对Invar金属基底上的有机污染物，采用结合了红外（1064nm）与绿光（532nm）的 Hybrid 复合波长 能够同时兼顾金属和有机物的反应性，达到最佳清洗效果。
机理与无损控制：通过纳秒脉冲激光产生瞬间热膨胀和热弹应力，破坏有机物与基底间的界面结合，再配合超声波或气刀/集尘装置去除微粒。同时优化了 Top-Hat 光束轮廓 并严格控制能量密度（约700~1200 mJ），确保在不损伤厚度小于100μm的Invar掩模及不改变图形Pitch（间距）的前提下彻底清除污染物。
混合（Hybrid）清洗：采用“激光照射破坏界面 + 超声波/DI水清洗剥离微粒”的复合工艺，有效解决了单纯激光清洗后微小残留颗粒的问题
