整套881个文件，近一个G的大小！原厂资料！保密的！KLA PUMA资料 是经典暗场（Darkfield）激光扫描图案晶圆检测系统，300mm 晶圆，用于前道工艺在线缺陷监控，主打内存 + 逻辑芯片量产良率管控，属于成熟节点主力机台，现已停产，存量机在大量晶圆厂服役KLA。
行业应用场景
在半导体 Fab 厂中，暗场检测机台（如国际线常用的 KLA Puma 9980 或应用材料 AMAT HawkEye）通常与明场检测机台（如 KLA 29xx / 39xx 系列）配合使用：明场侧重于高解析度关键区域的缺陷捕捉，而 Puma 暗场系列则侧重于以极高的扫描速度实现全片大面积的快速筛选与微小偏移监控。
全系列为Puma91xx → Puma9500/9550 → Puma9600/9650
| 型号 | 发布 | 目标工艺节点 | 核心定位 |
|---|---|---|---|
| Puma 91xx（9110/9130/9150） | 2006–2007 | 65nm / 45nm | 初代 Puma9xxx，Streak™多像素线扫传感器；产能是上代 Puma9000 接近 2 倍；DRAM/Flash/Logic 量产监控；老 9000 可现场升级到 91xxKLA |
| Puma 9500 /9550 | 2009 | 3Xnm~2Xnm | 分辨率翻倍，强化微桥、线缩、多晶硅倾斜这类微小图案缺陷检测，扫描速度再提升一倍KLA |
| Puma 9650 | 2012 | 28nm 及以下 | 窄带光学，eFence™专利抑制 SRAM 阵列边界 / Page Break 重复图案噪声；更小像素、光瞳工程优化，擅长栅刻蚀、沟槽残留、多余图形、桥连缺陷；可由 9550 现场升级KLA Corpor... |
暗场激光扫描 + Streak™多像素线性传感器不同于传统 AOD 声光偏转 + PMT，采用线扫描成像，高吞吐量，收集晶圆图案散射光，对微小颗粒、图案形变、残留、微桥敏感；不收集镜面反射光，适合阵列存储器（DRAM/NAND/SRAM）重复结构缺陷检出。
Pattern Suppression + eFence（9650）抑制周期性存储阵列本身的图案噪声，把阵列边缘、page break 区域的噪声压下去，抓取埋在重复图案里的良率杀手缺陷，是 Puma9650 最大亮点。
FAST 自适应阈值算法、iDO 缺陷自动分级配方 setup 参数减少约 80%；和 KLA 23xx 明场、eS 系列电子束检测机台配方互通、数据互通，缺陷可直接跳转 eDR 电镜复查。
刻蚀层（Gate Etch、STI、Trench）、沉积、光刻后 ADI/AEI
缺陷类型：颗粒、micro/nano bridge、沟槽残留、多余图形、断线 / 线缩、凸起、薄膜异常
器件：DRAM、NAND Flash、SRAM、成熟节点逻辑芯片
优势
暗场大视场高速扫描，吞吐量远高于电子束检测，适合在线大批量监控
对内存阵列结构优化极强，是 DRAM 工厂标配经典机台
平台可现场升级，保护资本投入；和 KLA 整套良率系统打通局限
光学检测，深沟槽 / 高深宽比内部缺陷、纯电性缺陷检出弱于 e-beam
只能用于成熟工艺（28nm 及以上老节点），先进逻辑 / 存储转向 29xx、eS 电子束系列
Puma™ 激光扫描检测系统在灵敏度和速度方面进行了多项改进，使其能够在满足逻辑和存储器件大规模制造所需的吞吐量水平下，捕获关键的“关注缺陷”（DOI）。作为全面的晶圆缺陷检测与复查产品组合的一部分，Puma™ 9980 通过提升对各类图形化层中缺陷的检测能力，为生产监控提供了一种高吞吐量的解决方案。这些检测系统集成了诸如 NanoPoint™ 等“设计感知” 功能，通过提高缺陷灵敏度、改进系统性干扰缺陷 的分类以及增强缺陷坐标精度，提供更具可操作性的检测结果。
