AKT New Aristo™ 2200M VR 是应用材料（AMAT，原 AKT，收购 Applied Films 获得该技术）立式动态 PVD 溅射机（Vertical Sputter），专门用于LCD 彩膜 (Color Filter) 基板的金属 / ITO 薄膜沉积，面向Gen8.5（2200×2500 mm）玻璃基板生产线，2006 年发布，是当年大尺寸 TV 面板彩膜量产标杆设备Applied Ma...。
VR = Vertical Rotary（立式旋转阴极构型），不是虚拟现实。
用途：彩膜基板上沉积ITO、Cr、Mo、金属叠层、光学氧化物等导电 / 反射薄膜；
基板：Gen8.5 2200×2500mm 玻璃，一片基板可切 6 片 55 寸 LCD；
架构：立式、基板竖直搬运（区别于卧式 PVD），Full Dynamic 动态溅射；
平台：New Aristo 家族，2200M 为 Gen8.5 规格，VR 版本搭载Rotary Cathode 旋转阴极（滚筒靶材）。
Rotary rotary magnetron cathode（旋转滚筒靶）相比传统平面靶，靶材利用率大幅提升，降低靶材更换频次，同时颗粒 (particle) 控制更好，提升彩膜良率；膜厚均匀性优秀，适合大面积玻璃基板。
立式载具输送系统（Carrier transport）基板竖直装在载具里全自动进出真空腔，独立真空轨道设计，缩短节拍时间，高 UPH。
模块化腔体可按工艺需求配置多腔，实现多层膜连续沉积；模块化门结构，维护、工艺改造灵活。
VR vs Twin
VR：单通道立式动态溅射，基础量产机型；
Twin：双并行通道，产能比 VR 再提升约 40%，适合高产能工厂。
可做单层 / 多层叠层：ITO、Cr/CrOx、Mo、Al、金属合金、光学介质膜；
反应溅射（Reactive sputtering）支持；
低颗粒、大面积膜厚均匀性，是彩膜 CF 的 BM/COM/ITO 层主力 PVD 设备。
