Applied Materials Precision 5000,应用材料 1987 年推出,是半导体史上划时代的单片多腔集群设备(Cluster Tool),也是现代半导体集群平台的开山之作.
发布:1987(CVD 版本);1988 新增刻蚀;1989 WCVD 钨沉积;后续推出 Precision 5000 Mark II 升级款,支持 0.35μm 工艺Applied Ma...
架构:中央真空机械手 + 最多 4 个独立工艺腔,单片晶圆、低真空环境下完成多道连续工艺,晶圆不离开受控真空,大幅降低颗粒污染
晶圆尺寸:4"/5"/6"/200mm (8 英寸)
工艺时代:0.5μm ~ 0.35μm,面向 DRAM、早期逻辑芯片