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Applied Materials Precision 5000单片多腔集群PECVD
首页 >半导体设备资料 >晶圆制造:镀膜-PVD-CVD 2024-01-31 报告错误错误问题可与客服联系,感谢您的支持! [上传图纸即可免费下载] 觉得本站不错记得分享给好友哦! 0
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图纸预览图
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资料描述

Applied Materials Precision 5000,应用材料 1987 年推出,是半导体史上划时代的单片多腔集群设备(Cluster Tool),也是现代半导体集群平台的开山之作.

核心定位

  • 发布:1987(CVD 版本);1988 新增刻蚀;1989 WCVD 钨沉积;后续推出 Precision 5000 Mark II 升级款,支持 0.35μm 工艺Applied Ma...

  • 架构:中央真空机械手 + 最多 4 个独立工艺腔,单片晶圆、低真空环境下完成多道连续工艺,晶圆不离开受控真空,大幅降低颗粒污染

  • 晶圆尺寸:4"/5"/6"/200mm (8 英寸)

  • 工艺时代:0.5μm ~ 0.35μm,面向 DRAM、早期逻辑芯片