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磁控溅射 PVD镀膜Singulus 德国新格拉斯GENERIS PVD-三份文档ALL
首页 >半导体设备资料 >晶圆制造:镀膜-PVD-CVD 2024-01-31 报告错误错误问题可与客服联系,感谢您的支持! [上传图纸即可免费下载] 觉得本站不错记得分享给好友哦! 0
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资料描述

Singulus 是德国真空镀膜设备厂商,主打磁控溅射 PVD,产品线分三大平台,覆盖半导体、光伏、燃料电池双极板、装饰镀膜等场景,全球已交付 > 8500 台溅射设备SINGULUS T...。核心是模块化磁控溅射 PVD,支持 DC / 脉冲 DC/RF 溅射、反应溅射、双面镀膜。

三大 PVD 平台:

1. GENERIS PVD|Inline 在线式(最主流)

应用:HJT 异质结光伏电池、燃料电池双极板、电解槽、玻璃 / 大基板 TCO、金属层沉积SINGULUS T...

  • 型号:GENERIS 750S(小产能)/1250M /1800L(超大基板)

  • 特色:在线连续真空、无破真空双面溅射;自研旋转圆柱磁控管,靶材利用率高;载具传输,可处理 G12 硅片、薄基板 (低至 60μm)

  • 可镀材料:ITO/AZO/NiO/TiO₂(TCO / 反应溅射);Ag/Cu/Mo/Cr/Ni 金属层

  • 节拍:40–75 s / 载具;支持研发样机→中试→量产线扩容

2. TIMARIS PVD|Cluster 集群式半导体 PVD

应用:半导体、传感器、存储,极薄纳米膜堆叠(最薄可达 0.2 nm)SINGULUS T...

  • 200/300mm 晶圆兼容,支持 SECS/GEM、APC 先进工艺控制

  • 模块化工艺腔:MTM 多靶、FTM 四靶、PCM 预清洗、OPM 氧化、RSM 基板旋转模块等

  • 工艺:DC / 脉冲 DC/RF 溅射、共溅射;专利 LDD 线性动态沉积,膜厚控制精度 0.01nm 级别;用于金属栅、阻挡层、接触层、多层纳米薄膜

3. POLYCOATER PVD|3D 件装饰镀膜在线溅射

应用:塑料 3D 件(汽车按键、化妆品外壳)替代六价铬电镀,环保装饰金属化SINGULUS T...

  • 3D 工件旋转溅射,高产能;节拍最低 6s / 载具

核心技术亮点

  1. 自研圆柱旋转磁控管:靶材利用率远高于平面靶,降低耗材成本

  2. 模块化腔体架构,工艺模块按需增减

  3. 基板加热、原位预处理清洗;支持单面 / 双面镀膜

  4. 全类型磁控溅射模式:DC、脉冲 DC、双极、RF、反应溅射

平台架构核心市场基板类型
GENERIS PVDInline 在线HJT 光伏、燃料电池双极板大玻璃、硅片、金属薄板
TIMARIS PVDCluster 集群半导体、传感器、存储200/300mm 晶圆
POLYCOATER PVDInline 在线汽车 / 消费件装饰镀膜3D 塑料件

与主流 PVD 厂商简单区分

  • Singulus:强项大基板在线 PVD(HJT / 燃料电池双极板),TIMARIS 做半导体纳米膜;

  • Applied Materials / Tokyo Electron:半导体晶圆 cluster PVD 龙头;

  • Von Ardenne:同样大基板在线溅射,光伏 / 显示领域直接竞品。