1.离子注入是半导体工业中的主要掺杂方法。它是通过电场加速和磁场筛选以及平行化，将特定元素注入到目标材料中的技术，通过高精度的控制，确保注入剂量的均匀性。因其具有控制精准，各向异性，常温工艺等优点，广泛应用于集成电路, 化合物半导体，面板等领域，成为主流的掺杂工艺。
2.主要由高压仓模块，光路模块，靶室模块和附属设备等组成，3D图纸可以编辑，含有工程图，对进入前道制程设备的工程师十分有参考价值！
3.离子注入设备结构复杂，技术难度高，是半导体制造环节的关键设备之一。只有涉及技术包括：静电场加速、剂量控制、电磁场筛选等关键技术！
半导体离子注入机.stp
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