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晶圆制造:光刻、显影、刻蚀、热处理等
晶圆制造:镀膜、PVD、CVD等
晶圆处理:清洗、研磨、减薄等
晶圆量测:量测、检测、光学等
晶圆切割:划片、激光等
先进封装:键合类DB、WB、TCB、HB等
核心部件技术:Stage、chuck、运控等
封测探针:测试、编带、分选等
高端装备:精机、3C、SMT、面板等
报告-工艺:半导体标准、前沿市场等
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佳能固晶机资料一批
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96
2026-04-22
高精度镜头组装
0
79
2026-04-22
如何解决Wafer Chuck上的颗粒减少对晶圆影响?
22
2026-04-22
摄像头贴膜机
0
58
2026-04-21
晶圆检测核心技术:光学检测与电子束检测技术架构对比
6
2026-04-21
晶圆键合器与解键合设备技术研究资料
来自半导体公司的内部技术报告,一共有176页!详述了薄型化晶圆的临时键合与解键合设备。 文档包含核心技术:1.TBDB工艺,基于Glue和薄膜两种临时键合技术。2.研究了键合与解键合流程。3.核心设备组件设计:预对准模块设计. 晶圆堆叠的精度。加热/冷却单元设计.4. 温度控制系统,确保键合过程中胶水或薄膜的均匀固化。5.涂布与清洗模块设计,精确涂布和晶圆清洗。6.技术验证和相关数据!
99
2026-02-17
EVG等纳米压印光刻技术报告
来自EVG的一些纳米光刻技术报告,11个文件!具体内容目录和页数可以查看图中描述!讲解的纳米压印大量技术应用和技术报告!
87
2026-02-16
涂层纳米压印光刻技术
来自德国COATEMA Coating Machinery GmbH公司的纳米涂层光刻技术,两份资料有57页+61页!介绍的非常详细!年份为2025和2020年,内容包括技术应用技术介绍和设备介绍!以及一些计算和数据!
78
2026-02-16
EUV光刻机
EUV光刻机
14
2026-02-15
Jet EFEM 平台详细使用手册
BrooksAutomationJetTM系统是一个设备前端模块(EFEM)。它是工厂物料运输系统与工艺工具之间的连接点。 Jet系统是一种兼容SEMI标准的接口系统,专为手动、AGV、PGV或OHV自动化装载载具而设计,这些载具内装有晶圆或其他材料,正等待水平转移。它是一个自成一体且完全集成的气载转移系统,配备有机器人、对位装置、装载端口以及安装在整体框架上的控制系统。
62
2026-02-08
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