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晶圆制造:镀膜、PVD、CVD等
晶圆处理:清洗、研磨、减薄等
晶圆量测:量测、检测、光学等
晶圆切割:划片、激光等
先进封装:键合类DB、WB、TCB、HB等
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低压化学气相沉积(LPCVD)设备开发技术及配套工艺的研发
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2026-06-26
先进半导体干法刻蚀设备:Oxide Trench Etcher氧化物沟槽刻蚀机研发资料和技术培训
0
290
2026-06-26
大尺寸等离子体干法刻蚀设备与先进制造工艺的技术培训和技术开发
0
223
2026-06-26
半导体等离子体工艺设备智能化技术开发与实证与先进等离子体工艺的技术培训-183页
0
216
2026-06-26
干式清洗技术培训-基于超微细图案
0
242
2026-06-26
半导体超薄基板真空压膜机开发技术-100页
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223
2026-06-26
245页PECVD ACL设备开发技术-20nm级晶圆制程
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274
2026-06-26
溅射设备的开发技术资料-88页
0
227
2026-06-26
半导体清洗设备整机开发技术
0
262
2026-06-26
半导体晶圆清洗设备:单片式晶圆清洗设备工艺腔室研发技术67页
0
307
2026-06-25
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