X-T格式任何软件都可以打开,赠送大量资料,包括设备手册 结构手册等!十分有价值!包括上下料机构和传输轨道机构,等离子设备等!
半导体基板等离子清洗机是半导体制造与封装的干式精密表面处理设备,核心用于基板 / 晶圆原子级清洁、表面活化与微量刻蚀,替代传统湿法清洗,保障后续键合、镀膜、封装良率(可达 99.5%+)。
晶圆制造:光刻前去颗粒 / 有机物;刻蚀后去胶;沉积前活化表面。
先进封装:
引线键合前:清洁焊盘氧化层,提高键合良率。
芯片贴装前:活化基板,增强银胶附着力、节省胶量。
塑封前:去除微量污染,减少分层风险。
BGA/2.5D/3D 封装:微凸点 / TSV 孔清洁,提升互连可靠性。
OLED / 显示:ITO 基板清洗、蒸镀前脱气,提升膜层附着力。
| # | 文件名称 | 大小 |
|---|---|---|
| 1 | 35.55M | |
| 2 | 1.38M | |
| 3 | 3.06M | |
| 4 | 1.69M | |
| 5 | 1.93M | |
| 6 | 640.54K | |
| 7 | 34.09M | |
| 8 | 290.75K | |
| 9 | 723.43K | |
| 10 | 26.94M | |
| 11 | 25.57M | |
| 12 | 4.75M | |
| 13 | 2.37M | |
| 14 | 1.82M | |
| 15 | 6.88M | |
| 16 | 1.37M | |
| 17 | 4.92M | |
| 18 | 4.8M | |
| 19 | 329.16K | |
| 20 | 139.65M | |
| 21 | 0B | |
| 22 | 0B |