国外原图！非常的细节！业界成熟设备！采用高真空设计，大部分零件材质也有！

蒸发镀膜是物理气相沉积（PVD） 最经典工艺，全程在高真空腔体（10⁻³~10⁻⁶ Pa）完成！

一、腔体核心功能

蒸发镀膜必须在高真空密闭腔体内完成，核心两个作用：

1. 隔绝空气，避免蒸发金属 / 氧化物高温氧化、气相粒子和空气分子碰撞散射，保证薄膜直线沉积；

2. 提供密闭安装空间：电子枪 / 电阻蒸发源、行星基片架、离子源、晶振膜厚探头、观察窗、真空法兰、加热冷却组件全部内置。

二、腔体主体材质（行业标准）

1. 主流材质：304/316L 不锈钢

• 厚板焊接整体锻打，内壁电解抛光（Ra≤0.8μm），减少气体吸附、放气率低，真空更容易抽到 10⁻⁴~10⁻⁶Pa 高真空；

• 抗腐蚀，耐受 TiO₂、SiO₂、金属蒸气沉积，便于腔体清洁除膜；

小型实验机 / 低成本机型：铝合金腔体（轻量化，但放气高，仅低要求电阻蒸发使用）；

密封结构：全金属无氧铜刀口法兰密封，搭配氟橡胶 / 金属密封圈，杜绝漏气。

三、腔体分区

1. 主沉积腔

设备核心镀膜工作区，内部布局：

• 底部：电子束蒸发源水冷坩埚台 / 电阻钼舟蒸发模组；

• 顶部：行星旋转基片载台（晶圆 / 镜片夹持，公转 + 自转提升膜厚均匀性）；

• 侧壁开孔：

  • 观察视窗：钢化硼硅玻璃，带防镀膜遮挡板，实时观察蒸发状态；

  • 标准真空法兰（CF 法兰 / KF 法兰，图中两个圆形法兰）：用于安装离子源、晶振膜厚仪、温控探头、进气通气管路；

  • 大门密封门：带锁扣，用于拆洗腔体、更换膜料、上下料；

• 水冷夹层：腔体外壳内置冷却水通道，持续带走蒸发源辐射高温，防止密封圈高温老化、腔体热变形。

2. 上方透明防护罩

不是真空腔，是大气侧安全防护外罩：内部装载基片升降传动、行星旋转电机、精密传动机构；透明亚克力 / 钢化玻璃便于运维观察传动结构，隔离运动部件，防止安全事故。

3. 右侧真空机组接驳区

腔体侧面大法兰对接真空抽气系统，分级抽真空：

1. 粗抽：机械旋片泵 / 干泵，先抽到低真空；

2. 高真空：分子泵（图中大圆筒主体）+ 离子泵 / 钛泵，将腔体抽到蒸镀所需高真空；配套阀门、真空规、放气阀、波纹管管路全部集成在该侧。

4. 下方电控柜体

腔体配套供电、温控、真空检测、蒸发源驱动控制系统，水冷机、电源模块内置。

四、腔体关键配套结构

1. 水冷系统腔体壁、电子枪坩埚、法兰、离子源全部通水冷却；蒸发时膜料温度 2000℃+，无冷却会导致腔体变形、密封失效。

2. 密封与检漏结构CF 超高真空法兰金属密封，整机出厂氦检，漏率＜1×10⁻⁹ Pa・m³/s；每次开盖清洁后必须重新检漏。

3. 防镀膜挡板 / 内衬腔体内壁可拆卸不锈钢衬板、活动遮光挡板，阻挡多余蒸发材料附着腔体，定期拆下清洗，减少腔体放气、维持真空稳定性。

4. 工艺气体接口侧壁预留进气法兰，通入 Ar、O₂等工艺气体，用于离子辅助沉积（IAD）、反应蒸镀（制备氧化薄膜）。

腔体核心设计痛点

1. 放气控制：内壁抛光、减少有机材料，否则水汽、有机物持续释放，真空抽不上去；

2. 温度均匀性：大面积腔体水冷不均会造成局部热变形，法兰漏气；

3. 膜厚均匀性：腔体尺寸、基片架距离蒸发源高度、行星旋转半径直接决定整片晶圆 / 镜片镀膜均匀度；

4. 台阶覆盖受限：蒸发为视线沉积，腔体内部无法改善深孔镀膜，如需异形件需搭配离子源辅助。